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产品先容
产品特点

产品先容

TS-300 Altair 是一款热型原子层沉积（Thermal ALD）装备，聚焦高质量氮化铝（AlN）薄膜沉积，应用于先进逻辑、存储等芯片制造领域。产品在薄膜匀称性、保形性和颗�？刂颇芰Φ确矫娴执锕氏冉�，并具备先进薄膜工艺迭代能力。产品接纳六边形高产能平台设计，可搭载5个反应腔，结构紧凑，空间使用率高，知足客户的规�；坎枨�。

产品特点
        - 高质量 AlN 薄膜沉积能力
        - 高深宽比（20:1）结构下台阶笼罩率95%以上
        - 六边形高产能平台，可搭载5个反应腔
        - 具备先进薄膜工艺迭代能力